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分类：磁控溅射

介绍磁控溅射镀膜系统靶材的主要方法

2020-07-21

由于磁控溅射镀膜系统的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度，以达到正常溅射工作对靶材表面磁场大小的要求。实现的途径主要有以下几种：a、靶材设计与改进b、增强磁控溅射阴极的磁场c

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你知道磁控溅射系统的原理是什么？

2020-07-21

磁控溅射系统的原理是稀薄气体在反常辉光放电发生的等离子体在电场的效果下，对阴极靶材外表进行炮击，把靶材外表的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有必定的动能，沿必定的方向射向基体外表，在基体表面构成镀层。溅射镀膜开

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浅析磁控溅射镀膜的优缺点

2020-07-21

真空镀膜工艺分为多种，包括有真空磁控溅射镀膜，蒸发镀以及光学离子镀。现在主要来讲讲磁控溅射镀膜的原理以及优缺点是什么，让大家对这个电镀工艺有所了解，对产品电镀的选用工艺有所帮助。首先，真空磁控溅射镀膜通常应用在金属产品上面，原理为在电场作用

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你知道磁控溅射镀膜系统使用范围

2020-07-22

磁控溅射镀膜系统设备应用广泛，磁控溅射镀膜主要有汽车反光网、工艺品、首饰、鞋帽、钟表、灯具、装饰、手机、DVD、MP3、PDA外壳、按键、化妆品外壳、玩具、圣诞礼品等行业；PVC、尼龙、金属、玻璃、陶瓷、TPU等。磁控溅射镀膜设备跟真空磁控

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使用磁控溅射镀膜系统对环境有什么要求吗？

2020-07-22

由于要在特定条件下，因此磁控溅射镀膜系统要满足真空对环境的要求。制定的各种磁控溅射镀膜系统的行业标准(包括磁控溅射镀膜设备通用技术条件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真空蒸发镀膜设备)都对环境要求作了明确规定。只有满足了真空电镀机对环

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浅析磁控溅射镀膜仪应用广泛

2020-07-21

目前我国磁控溅射镀膜仪市场销售非常火热，这是一项热门的新技术，它带给企业和厂家的不仅仅是技术，还能够节省大量的人工运作成本，因此深受广大用户的青睐。磁控溅射镀膜设备可制备多种薄膜，不同功能的薄膜，还可沉积组分混合的混合物、化合物薄膜；磁控溅

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