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分类：磁控溅射

直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别

2020-09-17

主要的溅射方法能够根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射。另外，使用各种离子束源也能够完成薄膜的溅射堆积。现在的直流溅射（也叫二级溅射）较少用到，原因是溅射气压较高，电压较高，溅射速率小，膜层

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磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高？

2020-09-10

在使用磁控溅射镀膜设备的时候，使用一般的溅射办法，发现溅射功率都不是非常的高。为了进步溅射的功率，加速工作的进展。那么该怎样加速这种设备的运用功率呢？这就需求增加气体的理化功率。增加气

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磁控溅射是物理气相沉积的一种！

2020-09-03

磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多！磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发

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本底真空对磁控溅射的影响

2020-08-27

磁控溅射，磁场操控的二级溅射。原理是将靶材周围的气体电离化，构成等离子体，在等离子体环境中溅射进程。归于气体放电领域。优质的膜层需求操控膜层的安稳性和均匀性，而体现在操控方面，则表现为：磁场、气场、电源。1.磁场的安稳：靶芯的磁场的均匀性。

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磁控溅射镀膜仪有没有辐射？

2020-08-19

磁控溅射仪当然有辐射，1、可见光波段：阴极发射的电子电离介质气体分子，分子/原子光谱。这些光密度不大，不至于刺伤钛合金狗眼.属于无害辐射。2、不可见光波段：阴极发射的电子电离介质气体分子，红外/紫外，分子/原子光谱。紫外辐射有害3、X射

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本底真空对磁控溅射的影响？

2020-08-12

磁控溅射，磁场操控的二级溅射。原理是将靶材周围的气体电离化，构成等离子体，在等离子体环境中溅射进程。归于气体放电领域。优质的膜层需求操控膜层的安稳性和均匀性，而体现在操控方面，则表现为：磁场、气场、电源。1.磁场的安稳：靶芯的磁场的均匀性。

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直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别

磁控溅射镀膜设备如何使用效率才高？

磁控溅射是物理气相沉积的一种！

本底真空对磁控溅射的影响

磁控溅射镀膜仪有没有辐射？

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