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分类：磁控溅射

磁控溅射设备的用途有哪些？

2021-03-17

磁控溅射设备的主要用途（1）各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。（2）装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。（3）在微电子

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磁控溅射镀膜膜厚的均匀设计

2021-03-10

磁控溅射技术发展过程中各项技术的突破一般集中在等离子体的产生以及对等离子体进行的控制等方面。通过对电磁场、温度场和空间不同种类粒子分布参数的控制，使膜层质量和属性满足各行业的要求。膜厚均匀性与磁控溅射靶的工作状态息息相关，如靶的刻蚀状态，靶

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磁控溅射的种类有哪些？

2021-03-04

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜

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电弧熔炼触头材料是一种金属功能材料

2021-02-26

电弧熔炼金相组织对电气性能的影响电弧熔炼触头材料是一种金属功能材料。在非纳米概念的范畴，当触头材料的结晶组织是假合金、机械混合物时，发挥和承担电接触功能的作用主要是靠触头材料组成元素本身的物理和化学性质。而理想的组织结构则能改善材料的性能，

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磁控溅射技术比蒸发技术的粒子能量更高

2021-01-29

“溅射”是指具有一定能量的粒子（一般为Ar+离子）轰击固体（靶材）表面，使得固体（靶材）分子或原子离开固体，从表面射出，沉积到被镀工件上。磁控溅射是在靶材表面建立与电场正交磁场，电子受电场加速作用的同时受到磁场的束缚作用，运动轨迹成摆线，增

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磁控溅射系统的设计方法

2021-01-22

磁控溅射系统是现代工业中必不可少的技术之一。磁控溅射镀膜技术被广泛应用于透明导电膜，光学膜，超硬膜，防腐膜，磁性膜，抗反射膜，抗反射膜和各种装饰膜，在国防和国防领域日益强大和重要。经济生产。在实际生产中，诸如膜厚均匀性，沉积速率和涂布

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磁控溅射镀膜膜厚的均匀设计

磁控溅射的种类有哪些？

电弧熔炼触头材料是一种金属功能材料

磁控溅射技术比蒸发技术的粒子能量更高

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